Категории:
Товары:
CVD-метод Химическое парофазное осаждение Букинистическое издание Сохранность: Хорошая Издательство: Наука, 2000 г Твердый переплет, 496 стр ISBN 5-02-001683-7 Тираж: 400 экз Формат: 70x100/16 (~167x236 мм) инфо 13425x.

Книга посвящена изложению теории и практики CVD-метода (Chemical Vapor Deposition) - осаждению металлических пленок, покрытий, вискеров и высокодисперсных частиц из паровой (газовой) фазы летучих металлсодержабшэгищих соединений - карбонилов металлов, бис-пи-циклопентадиенильных соединений (металлоцены), алкилов металлов, бета-дикетонатов металлов и галогенидов металлов Описаны принципы выбора исходных веществ для CVD-металлизации в вакууме, в несущем газе, в плазме газового равзенизряда, при электронно-дуговом методе и при помощи лазера Изложен материал по получению функциональных металлических пленок, покрытий и вискеров использующихся в радиоэлектронике, электронной технике, машиностроении, авиации, космонавтике и других отраслях науки и техники Для широкого круга лиц, интересующихся вопросами получения металлов в виде различных модификаций, химиков, работающих с металлоорганическими соединениями и специализирующихся на методах их термической диссоциации врараАвтор Виталий Сыркин.